Positive SSL
1 下列有關微影製程之敘述何者不正確?
A 必須先製作光罩
B 以刷子在晶圓上塗佈光阻劑
C 光阻液要再經過烘烤除去光組液內之溶劑
D 以紫外線曝光
晶圓放在塗佈機上,滴一滴光阻液,塗佈機以1,000~5,000rpm之轉速旋轉,光阻液因離心力作用均勻向外流動,佈滿晶圓表面形成一薄層的附著膜